气相沉积按形式的基本原理，可分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。气相沉积在模具表面覆盖一层厚度为0.5~10μm的过度族元素（Ti、V、Cr、W、Nb等）的碳、氮、氧、硼化合物或单一的金属及非金属涂层。
气相沉积层具有很高的硬度、低的摩擦因数和自润滑性能，抗磨粒磨损性能良好，并有很强的抗蚀能力和良好的抗大气氧化能力，是一种很有前途的新型模具表面强化技术。
CVD是采用化学成分使方法使反应气体在模具基材表面发生化学反应形成覆盖层的方法，可获得超硬内磨镀层，是提高模具使用寿命的有效途径。
将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发（或称溅射），使这些气相原子或分支在一定条件下在模具表面上沉淀的工艺称物理气相沉积（简称PVD）。物理气相沉积可分为真空蒸镀、阴极溅射镀和离子镀三类，具有处理温度低、沉积速度快、无公害等特点，十分适合模具的表面强化，可大大提高模具的使用寿命。

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